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晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质

摘要

本申请涉及一种晶圆漏电流测试方法、装置、晶圆级测试仪及存储介质,所述方法应用于晶圆,所述晶圆包括多个待测量单元,所述方法包括:获取所述晶圆上每个所述待测量单元的漏电流;根据所有所述待测量单元的漏电流,获取漏电流中位数及漏电流第一统计特征值;根据所述漏电流中位数及所述漏电流第一统计特征值,获取漏电流偏移量;根据所述漏电流中位数及所述漏电流偏移量,获取漏电流测量阈值;根据所述漏电流测量阈值筛选所述待测量单元。本申请实施例提高晶圆中芯片筛选的准确性和覆盖率,提升芯片的可靠性,降低芯片使用过程中的不良率。

著录项

  • 公开/公告号CN113009321B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 深圳市金泰克半导体有限公司;

    申请/专利号CN202110242095.8

  • 发明设计人 李创锋;

    申请日2021-03-04

  • 分类号G01R31/28(20060101);

  • 代理机构44481 深圳智汇远见知识产权代理有限公司;

  • 代理人李雪鹃;杜亚明

  • 地址 518000 广东省深圳市坪山区龙田街道长方照明工业厂区厂房B一、四层

  • 入库时间 2022-08-23 13:24:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-08

    授权

    发明专利权授予

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