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具有凹入形状以在相邻磁体之间形成部分接触区域的一体磁体

摘要

本发明涉及一体磁体(1),其具有细长形状,并且包括第一纵向部分(1a),该第一纵向部分(1a)的外部轮廓具有向着一体磁体(1)的内部的方向凹入的形状(6),所述凹入形状(6)在所述第一部分(1a)的长度的至少一部分上延伸和/或在所述一体磁体(1)的至少一个纵向端部附近横向于所述一体磁体的纵向轴线在所述一体磁体(1)的周边的至少一部分上延伸。

著录项

  • 公开/公告号CN111801749B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 万络公司;

    申请/专利号CN201980009733.2

  • 发明设计人 R·拉沃;L·马耶尔;V·米赫伊勒;

    申请日2019-01-18

  • 分类号H01F7/02(20060101);H02K1/276(20220101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人王永建

  • 地址 法国康布

  • 入库时间 2022-08-23 13:23:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-04-05

    授权

    发明专利权授予

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