首页> 中国专利> 真空处理腔室中的氢分压控制

真空处理腔室中的氢分压控制

摘要

公开了真空处理腔室中的氢分压控制。本文所述的实施方式总体上涉及用于去除沉积系统中(诸如在气相沉积系统的真空前级管线中)发现的一种或多种处理副产物的方法。更具体地说,本公开的实施方式涉及减少系统中的氢积聚的方法。在另一实施方式中,提供了一种在沉积腔室中处理基板的方法。该方法包括在基板上沉积层,其中在沉积过程期间在与沉积腔室流体耦接的真空前级管线中产生含氢副产物。该方法还包括使氧化剂气体流入真空前级管线内,以与真空前级管线中的含氢副产物的至少一部分反应。

著录项

  • 公开/公告号CN108070849B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 应用材料公司;

    申请/专利号CN201711121327.4

  • 发明设计人 J·厄赫;H·K·波内坎蒂;

    申请日2017-11-14

  • 分类号C23C16/52(20060101);C23C16/44(20060101);C23C16/455(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人侯颖媖;金红莲

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 13:15:24

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号