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一种基于基图的两步相移单像素成像方法

摘要

本发明的一种基于基图的两步相移单像素成像方法,包括照明图案由计算机根据对应的图像生成公式计算生成;所述照明图案生成单元生成照明图案并通过投影单元将照明图案投影至物体表面,所述物体表面反射的光被所述光电转换单元转换成电信号并由图像重建单元根据重建公式处理生成所述物体的图像;所述图像生成公式包括可生成具有两种相位特征的正弦或余弦编码图部分和可生成只有一种灰度值的基图部分。本发明通过采用具有两种相位特征的正弦或余弦编码图和只有一种灰度值的基图实现了单像素的图像重建,本方法有效的减少了单像素成像过程中需要的照明图案的数量,解决了单像素成像过程中需要的照明图案数量巨大且成像速度缓慢等的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN112153254B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 合肥工业大学;

    申请/专利号CN202010900290.0

  • 申请日2020-08-31

  • 分类号H04N5/225(20060101);H04N5/232(20060101);

  • 代理机构34115 合肥天明专利事务所(普通合伙);

  • 代理人苗娟

  • 地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号

  • 入库时间 2022-08-23 13:09:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-25

    授权

    发明专利权授予

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