公开/公告号CN112382709B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-25
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申请/专利权人 至芯半导体(杭州)有限公司;
申请/专利号CN202011398693.6
发明设计人 不公告发明人;
申请日2020-12-03
分类号H01L33/12(20100101);H01L33/20(20100101);H01L33/00(20100101);
代理机构11888 北京华创智道知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人彭随丽
地址 311222 浙江省杭州市萧山区河庄街道江东七路599号智造谷
入库时间 2022-08-23 13:09:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-01-13
专利权的转移 IPC(主分类):H01L33/12 专利号:ZL2020113986936 登记生效日:20221230 变更事项:专利权人 变更前权利人:至芯半导体(杭州)有限公司 变更后权利人:空净视界智能科技有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:311222 浙江省杭州市萧山区河庄街道江东七路599号智造谷 变更后权利人:510555 广东省广州市黄埔区(中新广州知识城)亿创街1号406房之566
专利申请权、专利权的转移
机译: 制备固溶体(SiC)
机译: 一种利用外延层生长的硅单晶衬底的制造方法(制造用于外延层生长的单晶衬底的方法)
机译: 气相生长设备和生长AlN外延层的方法