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片上光源、片上光源的制备方法及光电子器件

摘要

本发明提供一种片上光源、片上光源的制备方法及光电子器件,在衬底上形成绝缘层,在绝缘层上形成光学阵列层,在光学阵列层上形成隔离层,在隔离层上形成二维材料层,在二维材料层上形成介质层,在介质层上形成双曲超材料层。其中,当光学阵列层的光子模式的谐振峰与二维材料层的激子峰的波长相等时,会导致二维材料层的发光强度增强。此外,双曲超材料层的表面等离子体激元会与二维材料层产生强耦合作用,进一步增强珀塞尔效应。本发明利用双曲超材料增强二维材料的珀塞尔效应,不仅能够实现片上光源的发光强度的显著提升,还能实现高发光效率和快响应速度并且尺寸小、结构紧凑、易于高密度集成和具备良好的CMOS集成工艺兼容性。

著录项

  • 公开/公告号CN113097356B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202110259593.3

  • 发明设计人 尤洁;罗玉昆;郑鑫;杨杰;欧阳昊;

    申请日2021-03-10

  • 分类号H01L33/20(20100101);H01L33/18(20100101);H01L33/16(20100101);H01L33/44(20100101);

  • 代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑朝然

  • 地址 100071 北京市丰台区东大街53号院

  • 入库时间 2022-08-23 13:09:43

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-02-25

    授权

    发明专利权授予

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