首页> 中国专利> 一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机

一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机

摘要

本发明属于光刻技术领域,具体公开了一种气浴装置的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机。本发明提供的栅格板设计方法包括:S1:确定栅格板的初始的设计参数,所述栅格板包括多个栅格;S2:根据设计参数,建立气浴装置的流体仿真模型;S3:计算获得流体出口的流体数据;S4:判断流体数据是否满足预设条件,如果是,执行S5,如果否,执行S6;S5:根据流体数据调整每个栅格或部分栅格的通风面积,更新设计参数并返回至S2;S6:获取每个栅格的最优通风面积。栅格板采用上述的栅格板设计方法形成,气浴装置包括上述的栅格板,光刻机包括上述的气浴装置。本发明提供的栅格板设计方法、栅格板、气浴装置及光刻机,提高了流体出口的流动均匀性和稳定性。

著录项

  • 公开/公告号CN110941146B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN201811107683.5

  • 发明设计人 龚辉;张洪博;孙启峰;张瑞平;

    申请日2018-09-21

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人胡彬

  • 地址 201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号

  • 入库时间 2022-08-23 13:08:00

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