首页> 中国专利> 用于EUV波阵面传感器的棋盘式设置中的透射切变光栅

用于EUV波阵面传感器的棋盘式设置中的透射切变光栅

摘要

一个波阵面测量系统,包括一个电磁射线源。一个成像系统将所述电磁射线均匀照在一个物平面上。一个第一光栅被置于所述物平面内以调节到达一个投射系统的所述入射光孔的射线。一个投射光学系统将所述第一光栅的一个像投射到所述焦平面上。一个第二光栅被置于所述焦平面以接收所述物平面的一个衍射像从而构成一个切变干涉仪。一个CCD检测器接收通过所述投射光学系统及所述第二光栅的该投射光学系统的所述光孔的所述像,若在所述投射光学系统中有色差则该像形成一个条纹图案。条纹图案的相移读出可以通过在一个横向方向上步进所述第一光栅并用所述CCD检测器读取每一帧来实现。

著录项

  • 公开/公告号CN100476586C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-04-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;

    申请/专利号CN200410001918.4

  • 发明设计人 谢尔曼·K·波尔特尼;

    申请日2004-01-15

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰费尔德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:21

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-23

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090408 终止日期:20100222 申请日:20040115

    专利权的终止

  • 2009-04-08

    授权

    授权

  • 2006-01-18

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-08-25

    公开

    公开

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