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硅片少子寿命的测试方法及装置

摘要

本发明提供了一种硅片少子寿命的测试方法及装置,属于半导体技术领域。硅片少子寿命的测试装置,包括:激光发生器,用于发射激光;微波探针,用于发射微波;控制单元,用于根据待测试硅片的外延层厚度计算出角度α,并根据所述角度α调整所述硅片的位置、所述微波探针发射微波的角度以及所述激光发生器发射激光的角度,使得所述硅片与水平面之间的夹角为α,所述微波探针发射微波的方向与所述硅片垂直,所述激光发生器发射激光的方向与水平面垂直。本发明能够实现对不同厚度外延层的硅片进行少子寿命测试。

著录项

  • 公开/公告号CN111398774B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010191560.5

  • 发明设计人 张翔;冯举;

    申请日2020-03-18

  • 分类号G01R31/265(20060101);G01R31/26(20140101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人许静;张博

  • 地址 710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室

  • 入库时间 2022-08-23 13:07:01

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