溅射靶、磁性膜和磁性膜的制造方法

摘要

本发明的课题在于提供一种可形成兼具磁性颗粒间的良好的磁分离性和高矫顽力的磁性膜的溅射靶、磁性膜和磁性膜的制造方法。本发明的解决方案在于本发明的溅射靶以原子比换算计含有1at.％以上的Zn，其一部分或全部形成Zn‑Ti‑O和/或Zn‑Si‑O的复合氧化物，Pt为45at.％以下，余量包含Co和不可避免的杂质。