使用适应性多元分析诊断处理系统的方法和系统

摘要

一种监视处理系统的方法和系统，所述处理系统用于在半导体制造过程期间处理衬底。从所述处理系统获取多次观察的数据(510)，所述数据包括多个数据参数。从所述数据构建主成分分析(PCA)模型，所述模型包括中心化系数(520)。从所述处理系统获取附加数据(550)，所述附加数据包括所述多个数据参数的附加观察。调整所述中心化系数以产生用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个的更新后的适应性中心化系数。将所述更新后的适应性中心化系数应用于所述PCA模型中所述数据参数的每一个(560)。利用所述PCA模型从所述附加数据确定至少一个统计量(560)。设置用于所述统计量的控制限度(570)，并将所述统计量与所述控制限度相比较(580)。