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一种用于污染场地原位修复的双通道分层注入装置

摘要

本发明公开了一种用于污染场地原位修复的双通道分层注入装置,包括从外向内依次套设的外管(2)、中管(3)和内管(4),外管(2)上设有至少一对外喷嘴,所述一对外喷嘴含有上下设置的第一外管喷射嘴(10)和第二外管喷射嘴(15),外管(2)的下部内套设有封隔器。该用于污染场地原位修复的双通道分层注入装置在外管内设置了双通道,可同时向污染源注入药剂和空气,使药剂分散更均匀,扩散半径更大,并可增加土壤内部空气流动,为微生物提供较好的好氧环境。通过提升设置在外管内的封隔器,实现药剂的分层注入,进而有效控制药剂的注入量,提高修复效率。

著录项

  • 公开/公告号CN111589854B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国石油天然气股份有限公司;

    申请/专利号CN201910125268.0

  • 申请日2019-02-20

  • 分类号B09C1/08(20060101);B09C1/00(20060101);

  • 代理机构11127 北京三友知识产权代理有限公司;

  • 代理人朱坤鹏;王春光

  • 地址 100007 北京市东城区东直门北大街9号

  • 入库时间 2022-08-23 13:03:48

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