公开/公告号CN112326685B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-01
原文格式PDF
申请/专利权人 浙江大学;
申请/专利号CN202011156466.2
申请日2020-10-26
分类号G01N21/95(20060101);G01N21/88(20060101);G06K9/62(20220101);G06T7/00(20170101);G06T7/11(20170101);G06T7/136(20170101);G06T7/194(20170101);G06T5/00(20060101);G06T5/50(20060101);G06T7/62(20170101);G06T7/66(20170101);G06V10/74(20220101);
代理机构33224 杭州天勤知识产权代理有限公司;
代理人彭剑;胡红娟
地址 310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
入库时间 2022-08-23 13:03:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-02-01
授权
发明专利权授予
机译: 使用气相添加剂防止或减少污染对光学组件的增强的激光诱导损伤(C-LID)的系统和方法
机译: 使用气相添加剂防止或减少污染对光学组件的增强的激光诱导损伤(C-LID)的系统和方法
机译: 基于布置在光学器件上的氟化自组装单分子层,抑制污染增强的激光诱导损伤(CELID)的系统和方法