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有机膜形成用组合物、半导体装置制造用基板、有机膜的形成方法、图案形成方法及聚合物

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摘要

本发明提供一种有机膜形成用组合物，其即使在用于防止基板腐蚀的不活性气体中的成膜条件下也不产生副产物，不仅形成于基板上的图案的嵌入和平坦化特性优异，而且能够形成基板加工时的干法蚀刻耐性也良好的有机膜，进一步，即使在该有机膜上形成CVD硬掩模时，该膜的膜厚也不因热分解而变动。本发明为一种有机膜形成用组合物，其特征在于，含有(A)具有下述通式(1)所示的重复单元的聚合物及(B)有机溶剂。[化学式1]

著录项

公开/公告号CN109426076B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-25

原文格式PDF
申请/专利权人信越化学工业株式会社;
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申请/专利号CN201810985279.1
发明设计人郡大佑;荻原勤;渡边武;新井田惠介;泽村昂志;
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申请日2018-08-28
分类号G03F7/004(20060101);G03F7/00(20060101);G03F7/09(20060101);H01L21/027(20060101);
代理机构11002 北京路浩知识产权代理有限公司;
代理人张晶;谢顺星
地址日本东京都
入库时间 2022-08-23 13:02:30

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