公开/公告号CN112677033B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-12-17
原文格式PDF
申请/专利权人 上海新昇半导体科技有限公司;
申请/专利号CN202011413321.6
发明设计人 沙酉鹤;
申请日2020-12-03
分类号B24B37/10(20120101);B24B37/30(20120101);B24B37/34(20120101);B24B57/02(20060101);
代理机构11336 北京市磐华律师事务所;
代理人胡竞之
地址 201306 上海市浦东新区临港新城云水路1000号
入库时间 2022-08-23 12:57:58
机译: 抛光头,化学机械抛光装置以及抛光头的清洗方法
机译: 化学机械抛光装置的抛光头及使用该抛光头的抛光方法
机译: 化学机械抛光装置的抛光头及使用该抛光头的抛光方法