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一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法

摘要

本发明公开了一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法。本发明通过分组复合及迭代设计方法进行初始结构的设计,从而快速高效的得到折反射式光刻物镜系统初始结构。物镜系统包括三个子系统:第一镜组G1,第二镜组G2和第三镜组G3。物镜系统设计方法包括如下步骤:根据设计需求设计G1和G3初始结构;设置G1的像面为G2的物面,G2的像面为G3的物面;设置G2,包括相对设置的2片反射镜,通过矩阵光学计算G2的球面初始结构,并对G2的球面初始结构进行分组复合及迭代拟合设计,完成G2镜组初始结构设计。通过后续优化设计,完成高性能折反式光刻物镜系统设计,提高了折反式深紫外光刻物镜系统整体设计效率。

著录项

  • 公开/公告号CN112859543B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN202110141736.0

  • 发明设计人 李艳秋;闫旭;郝倩;刘丽辉;刘克;

    申请日2021-02-02

  • 分类号G03F7/20(20060101);G02B27/00(20060101);G02B13/22(20060101);

  • 代理机构11120 北京理工大学专利中心;

  • 代理人高会允

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 12:57:03

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