一种低蚀刻的去除光阻残留物的清洗液

摘要

本发明公开了一种用于去除光阻残留物的清洗液及其组成。这种去除光阻残留物的清洗液含有(a)季胺氢氧化物(b)醇胺(c)有机溶剂(d)C2‑C6多元醇(e)咪唑及其衍生物。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，且对金属铜、铝等基本不腐蚀；在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。