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一种基坑降水井与土方交叉作业施工方法

摘要

本发明涉及建筑施工技术领域,公开一种基坑降水井与土方交叉作业施工方法。该基坑降水井与土方交叉作业施工方法包括:以基坑护坡与地下水位初始面的相交处作为降水井的施工位置;完成降水井的施工后,开始降水作业,并进行土方的开挖;在土方的开挖过程中截断部分降水井,直至土方开挖至地下水位初始面处为止;继续进行土方的开挖,直至基坑开挖完成。本发明解决了在狭窄的施工场地内完成井点降水施工的难点,通过将降水井施工在基坑护坡上,既避开了建筑物结构外边线,不影响建筑物外墙结构施工的工作面,又避开了基坑上口线与施工围挡之间狭窄的距离,杜绝了安全隐患,可以在土方施工的同时进行降水作业,使得基坑底部始终保持干燥状态。

著录项

  • 公开/公告号CN110528547B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-01-04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京天润建设有限公司;

    申请/专利号CN201910854129.1

  • 发明设计人 初彦辰;于赫男;严新建;

    申请日2019-09-10

  • 分类号E02D19/10(20060101);E02D17/00(20060101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人胡彬

  • 地址 100062 北京市东城区广渠门内大街43号雍贵中心C座7层

  • 入库时间 2022-08-23 12:54:10

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