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具有一个或多个光栅场的光栅图像

摘要

本发明涉及一种具有一个或多个光栅场的光栅图像,各个所述光栅场包括具有多条光栅线的电磁辐射影响光栅图案,所述光栅线的特性由方位、曲率、间隔和轮廓参数确定。根据本发明,在所述光栅图像中,能够用肉眼单独地看到的光栅场(30)包括具有这样的光栅线(32)的电磁辐射影响光栅图案,即,光栅线的参数方位、曲率、间隔(34)和轮廓中的至少一个通过所述光栅场的表面变化。

著录项

  • 公开/公告号CN100489568C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-05-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 德国捷德有限公司;

    申请/专利号CN200580002326.7

  • 发明设计人 马里乌斯·迪希特尔;

    申请日2005-01-24

  • 分类号G02B5/18(20060101);B42D15/00(20060101);

  • 代理机构武汉开元专利代理有限责任公司;

  • 代理人樊戎

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-27

    专利权的转移 IPC(主分类):G02B 5/18 登记生效日:20180308 变更前: 变更后: 申请日:20050124

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-05-20

    授权

    授权

  • 2009-05-20

    授权

    授权

  • 2007-05-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-05-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2007-03-28

    公开

    公开

  • 2007-03-28

    公开

    公开

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