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一种多孔石墨烯分离膜及其制备方法

摘要

本发明公开一种多孔石墨烯分离膜及其制备方法,分离膜包括多孔基底和附着在多孔基底上的石墨烯薄膜,石墨烯薄膜上有通孔,通孔的孔径为亚纳米级;石墨烯薄膜的厚度不超过十个原子层的厚度,多孔基底为绝缘体,通过对分离膜化学功能化处理或物理通电使其表面带电,电荷密度为1‑6e/nm2;通过给石墨烯表面选择性地带正/负电,进而选择性地改变气体分子在石墨烯表面的吸附能力及纳米孔中的渗透能力,进而使较大纳米孔出现分离选择性,最终提高多孔石墨烯分离膜的性能;无需精确控制或改变纳米孔大小就能提高石墨烯薄膜的选择性;石墨烯薄膜表面带电容易实现,操作方法简单;只需控制多孔石墨烯分离膜电荷密度,实现石墨烯薄膜选择性的调控。

著录项

  • 公开/公告号CN111229061B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安交通大学;

    申请/专利号CN202010055265.7

  • 发明设计人 孙成珍;白博峰;

    申请日2020-01-17

  • 分类号B01D71/02(20060101);B01D69/02(20060101);B01D67/00(20060101);

  • 代理机构61200 西安通大专利代理有限责任公司;

  • 代理人马贵香

  • 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号

  • 入库时间 2022-08-23 12:49:29

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