首页> 中国专利> 采用偶极子照明技术依赖屏蔽的定向

采用偶极子照明技术依赖屏蔽的定向

摘要

一种使用偶极子照射来印制在基片上具有垂直定向特征和水平定向特征的图形的方法,该方法包括步骤:识别包含在所述图形中的背景区域;在所述背景区域中产生一个包含不可分辨的水平定向特征的垂直元件掩模;在所述背景区域中产生一个包含不可分辨的垂直定向特征的水平元件掩模;使用X磁极照射来照射所述垂直元件掩模;以及使用Y磁极照射来照射所述水平元件掩模。

著录项

  • 公开/公告号CN100470721C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-03-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML蒙片工具有限公司;

    申请/专利号CN03158830.1

  • 发明设计人 D·-F·S·苏;N·科尔科兰;J·F·陈;

    申请日2003-07-26

  • 分类号H01L21/027(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰维尔德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:10

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-08

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 授权公告日:20090318 终止日期:20160726 申请日:20030726

    专利权的终止

  • 2014-03-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/027 变更前: 变更后: 登记生效日:20140211 申请日:20030726

    专利申请权、专利权的转移

  • 2014-03-12

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/027 变更前: 变更后: 登记生效日:20140211 申请日:20030726

    专利申请权、专利权的转移

  • 2009-03-18

    授权

    授权

  • 2009-03-18

    授权

    授权

  • 2005-08-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-08-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-12

    公开

    公开

  • 2004-05-12

    公开

    公开

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