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质量流量控制装置、反应腔室压力控制系统及调节方法

摘要

本发明提供的质量流量控制装置和反应腔室压力控制系统,包括质量流量管路、流量控制模块和驱动模块,其中,流量控制模块设置在质量流量管路上,用于限制流经的气体流量,驱动模块与流量控制模块连接,用于驱动流量控制模块移动,以调整流经流量控制模块的气体流量。由于在管路上设置流量控制模块,并由驱动模块驱动流量控制模块,从而在完全打开和完全关闭两种状态之间,还能够调节流经流量控制模块的流量,进而提高质量流量控制装置的控制精度。本发明提供的反应腔室的压力调节方法,能够通过质量流量控制装置调节流量,来调节反应腔室的压力,具有相应时间快、压力调节精度高的优点。

著录项

  • 公开/公告号CN111208853B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京七星华创流量计有限公司;

    申请/专利号CN201811390438.X

  • 发明设计人 陈正堂;苏乾益;

    申请日2018-11-21

  • 分类号G05D27/02(20060101);

  • 代理机构11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司;

  • 代理人彭瑞欣;张天舒

  • 地址 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号1幢506室

  • 入库时间 2022-08-23 12:48:27

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