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具有内嵌金属环的纳米孔阵列结构的制备方法

摘要

本发明属于微纳加工技术领域,具体涉及一种具有内嵌金属环的纳米孔阵列结构的制备方法。该制备方法包括在基底表面依次旋涂高分子层和紫外固化胶层,通过紫外压印、刻蚀、蒸镀、举离得到具有纳米孔阵列结构金属层的衬底,然后对基底进行刻蚀得到具有纳米孔阵列结构的基底,在基底表面、孔底及孔侧壁上镀上金属,刻蚀基底表面及孔底部平面上的金属层,得到内嵌金属环的纳米孔阵列结构。该制备方法通过控制模板结构、刻蚀和镀膜工艺参数对金属环的结构、尺寸、分布进行调整,从而调控金属纳米环阵列产生的局域表面等离激元效应,与具有纳米孔阵列结构的衬底带来的陷光效应协同作用,在光电器件、光催化等领域能够进一步提高光的转化效率。

著录项

  • 公开/公告号CN109795979B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京大学;

    申请/专利号CN201811631703.9

  • 申请日2018-12-28

  • 分类号B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11250 北京三聚阳光知识产权代理有限公司;

  • 代理人李静

  • 地址 210046 江苏省南京市栖霞区仙林大道163号

  • 入库时间 2022-08-23 12:46:50

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