一种掩膜版组件及掩膜版组件的制作方法

摘要

本发明涉及显示领域，公开一种掩膜版组件及掩膜版组件的制作方法,该掩膜版组件具有镂空区；至少一部分所述镂空区的侧壁上形成有凹陷部。通过在掩膜版组件上的镂空区处形成凹陷部，这种设计方式可以使气流在镂空区处的掩膜版组件的边缘产生涡流，将掩膜版组件边缘的成膜气体聚集在边缘位置，防止成膜气体钻入掩膜版组件下，可以减小过界镀膜区域的距离，提高原子层沉积技术的适用性。