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通过FZ法提拉单晶的方法和设备

摘要

本发明涉及通过FZ法提拉单晶的方法,其中借助于电磁熔化装置熔化多晶(100),然后使其再结晶,其中在第一阶段中,借助于所述熔化装置熔化所述多晶(100)的下端,其中在第二阶段中,使单晶晶种(140)附着至所述多晶(100)的所述下端,并从所述晶种(140)的上端开始熔化,其中在第三阶段中,在所述晶种(140)的下区段和所述多晶(100)之间,形成直径(dD)小于所述晶种(140)的直径(dI)的细颈区段(130),其中在第四阶段中,在所述细颈区段(130)和所述多晶(100)之间,形成所述单晶的锥形区段,其中,在达到所述第四阶段之前,确定所述多晶(100)的转换位置(h'),即所述多晶(100)相对于所述熔化装置移动的速率在量上将要降低的位置,并且其中在所述第四阶段中,当达到所述转换位置(h')时,所述多晶(100)相对于所述熔化装置移动的所述速率在量上降低,并且还涉及相应的设备。

著录项

  • 公开/公告号CN110291231B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 硅电子股份公司;

    申请/专利号CN201880011591.9

  • 发明设计人 T·施勒克;

    申请日2018-02-13

  • 分类号C30B13/20(20060101);C30B13/28(20060101);C30B13/30(20060101);C30B13/32(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人过晓东

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 12:43:59

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