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驰豫GeSn红外雪崩光电探测器及其制造方法

摘要

本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种驰豫GeSn红外雪崩光电探测器及其制造方法。所述驰豫GeSn红外雪崩光电探测器,包括衬底以及沿垂直于所述衬底的方向依次层叠于衬底上的电荷倍增结构、缓冲层和吸收层;所述电荷倍增结构采用Si材料构成;所述吸收层采用驰豫Ge1‑xSnx材料构成,其中,0

著录项

  • 公开/公告号CN110797431B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-02

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新微技术研发中心有限公司;

    申请/专利号CN201810870394.4

  • 申请日2018-08-02

  • 分类号H01L31/107(20060101);H01L31/18(20060101);H01L31/028(20060101);

  • 代理机构31294 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙佳胤;陈丽丽

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路235号3号楼

  • 入库时间 2022-08-23 12:43:45

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