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一种基于SAPO-34混合基质膜的制备方法及应用

摘要

本发明涉及一种基于SAPO‑34的混合基质膜的制备方法及在液体混合物和气体混合物分离中的应用。该混合基质膜由SAPO‑34纳米片和聚合物组成。制备过程包括先制备SAPO‑34纳米片,再将SAPO‑34纳米片取向负载到载体表面,然后通过提拉、浸渍等方式与聚合物复合,形成混合基质膜。该混和基质膜膜层薄,膜平均厚度在40nm~100μm,连续,致密,分布均匀,无明显缺陷,具有良好的化学稳定性和热稳定性,在液体混合物、气体混合物尤其是CO2/N2,CO2/CH4的分离中具有广阔的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN111249917B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院大连化学物理研究所;

    申请/专利号CN201811458974.9

  • 发明设计人 杨维慎;姚瑞;彭媛;

    申请日2018-11-30

  • 分类号B01D67/00(20060101);B01D53/22(20060101);B01D61/36(20060101);

  • 代理机构21212 大连东方专利代理有限责任公司;

  • 代理人毛薇;李馨

  • 地址 116000 辽宁省大连市沙河口区中山路457号

  • 入库时间 2022-08-23 12:40:05

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