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二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了一种二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜及其制备方法与应用。所述二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜包括在其厚度方向上依次层叠的钛过渡层、钛/钽/二硫化钼/二硫化钨多层梯度过渡层和二硫化钼/二硫化钨多层钽掺杂层。所述制备方法包括:采用磁控溅射技术,在基体表面依次沉积钛过渡层、钛/钽/二硫化钼/二硫化钨多层梯度过渡层和二硫化钼/二硫化钨多层钽掺杂层,获得二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜。本发明的二硫化钼/二硫化钨多层掺钽薄膜具有良好的基底结合强度、硬度及弹性模量,在大气环境不同温度下均具有良好的摩擦磨损性能、良好温度自适应性能、耐湿热、耐高温氧化性能,能满足航空航天飞行器润滑稳定及长寿命服役要求。

著录项

  • 公开/公告号CN111621745B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010716602.2

  • 申请日2020-07-23

  • 分类号C23C14/06(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/35(20060101);

  • 代理机构32256 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人王锋

  • 地址 315201 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号

  • 入库时间 2022-08-23 12:39:58

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