公开/公告号CN111750789B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-01
原文格式PDF
申请/专利权人 北京工业大学;
申请/专利号CN202010520395.3
申请日2020-06-08
分类号G01B11/14(20060101);G01B11/08(20060101);G01B11/24(20060101);G01B11/00(20060101);G06T7/00(20170101);G06T7/11(20170101);G06T7/136(20170101);G06T7/155(20170101);G06T7/62(20170101);G06T5/00(20060101);
代理机构11203 北京思海天达知识产权代理有限公司;
代理人刘萍
地址 100124 北京市朝阳区平乐园100号
入库时间 2022-08-23 12:34:03
机译: 墨滴质量偏差测量装置,墨滴质量偏差测量方法,使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统以及使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统的控制方法
机译: 墨滴质量偏差测量装置,其墨滴质量偏差测量方法,使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统以及使用该墨滴质量偏差测量装置的图案形成系统的控制方法
机译: 用于通过区别齿廓偏差相对于齿轮旋转角度来评估实施例运动特征的设备和方法。