公开/公告号CN109804315B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 卡尔蔡司SMT有限责任公司;
申请/专利号CN201780062049.1
申请日2017-09-14
分类号G03F7/20(20060101);G02B7/182(20210101);
代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;
代理人王蕊瑞
地址 德国上科亨
入库时间 2022-08-23 12:33:23
机译: 投射曝光掩模,投射曝光掩模的制造方法,投射曝光方法和投射曝光设备
机译: 投射曝光设备,投射曝光方法和制造该投射曝光设备的方法
机译: 用于半导体光刻的投射曝光设备的部件的制造方法和投射曝光设备