投射曝光设备及减小投射曝光设备的部件的来自动态加速度的形变的方法

摘要

本发明涉及一种半导体光刻的投射曝光系统(1)，包括至少一个部件(22)和支撑装置，该支撑装置具有在部件(22)的至少一个支撑点(27)上作用的至少一个支撑致动器(23)，使得部件(22)的形变减小，其中支撑装置具有致动至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28)，其中控制单元(28)配置为在动态加速度作用在部件(22)上期间致动支撑致动器(23)。本发明还涉及一种减小半导体光刻的投射曝光系统的由动态加速度引起的形变的方法。