首页> 中国专利> 用于由入射电磁波在近区形成至少一个倾斜聚焦束的设备

用于由入射电磁波在近区形成至少一个倾斜聚焦束的设备

摘要

一种用于由入射在设备上的电磁波在近场区中形成至少一个聚焦束的设备,其特征在于它包括:至少部分地包括至少一个腔的至少一个介电材料层,该至少一个腔填充有折射指数小于介电材料的折射指数的介质。该至少一个腔的目标为圆柱形或锥形,并且包括相对于电磁波的到达方向限定的至少一个底表面和至少一个侧表面。该至少一个底表面由具有新月形状的底边缘线描绘,该底边缘线包括凹底边缘线段和凸底边缘线段,该底边缘线形状和/或取向和/或该至少一个底表面与该至少一个侧面之间的相关联的底角控制至少一个聚焦束在与电磁波的到达方向正交并且包括至少一个底表面的至少一部分的平面上的投影的角位置,其称为方位角。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号