首页> 中国专利> 一种含共沉积复相界面的SiCf/SiC复合材料制备方法

一种含共沉积复相界面的SiCf/SiC复合材料制备方法

摘要

本发明公开了一种含共沉积复相界面的SiCf/SiC复合材料制备方法,包括以下步骤:采用CVI工艺对SiC纤维预制体进行界面沉积,以丙烯为碳源气体、以三氯甲基硅烷为碳化硅源气体进行共沉积;载气为氢气,稀释气体为氩气和氢气;利用CVI工艺对完成界面沉积的SiC纤维预制体进行SiC基体沉积,碳化硅源气体为三氯甲基硅烷,载气为氢气,稀释气体为氩气和氢气。制备获得的SiCf/SiC复合材料,在纤维与基体之间为PyC‑SiC复相界面,PyC‑SiC复相界面是共沉积形成的、由SiC纳米晶和热解炭相PyC组成的复相界面。本发明提供的制备方法,主要包括利用CVI共沉积制备PyC‑SiC复相界面以及SiC基体的致密化两个主要步骤,界面制备更容易控制且制备效率也更高;所制备的SiCf/SiC复合材料的强韧性得到进一步提高。

著录项

  • 公开/公告号CN110483055B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国核动力研究设计院;

    申请/专利号CN201910727806.3

  • 申请日2019-08-08

  • 分类号C04B35/577(20060101);C04B35/80(20060101);C04B35/628(20060101);

  • 代理机构51220 成都行之专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人胡晓丽

  • 地址 610000 四川省成都市一环路南三段28号

  • 入库时间 2022-08-23 12:33:10

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号