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公开/公告号CN112030161B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-28
原文格式PDF
申请/专利权人 昆明理工大学;
申请/专利号CN202011052429.7
发明设计人 刘洪喜;刘径舟;郝轩弘;邸英南;蔺健全;
申请日2020-09-29
分类号C23C24/10(20060101);C22C30/00(20060101);
代理机构53210 昆明合盛知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人龙燕
地址 650093 云南省昆明市五华区学府路253号
入库时间 2022-08-23 12:32:42
机译: 激光熔覆工作装置的激光熔覆工作方法和粉末进给器
机译: 用于激光熔化沉积制造的FECRCUTIV高熵合金粉末及其制备方法
机译: 用于激光覆层的耐磨和腐蚀性的铁基合金粉末及其激光熔覆层
机译:通过激光熔覆与气体雾化的预合金粉末制造的Alcocufeni高熵合金涂层
机译:激光熔覆FECRCONISIB高熵合金粉末合成无定形复合涂层的结构和高温性能
机译:激光熔覆的理论加工图:在Ti-6AI-4V基板上用Ti-6AI-4V粉末进行激光熔覆的实验验证
机译:通过激光熔覆与气体雾化预合金粉末制造的Alcocufeni高熵合金涂层
机译:激光熔覆层的等离子体发射光谱,用于过程控制和激光熔覆NbAl合金的氧化行为。
机译:调整410L合金和Fe–Cr–B–Si–Mo合金粉末混合物的熔覆激光熔覆铁合金的机械性能
机译:Ti-6Al-4V粉末在Ti-6Al-4V衬底上的激光熔覆:激光熔覆参数对组织的影响
机译:Gallium Imide,(Ga(NH)3/2)n,一种用于氮化镓粉末的新型聚合物前驱体