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公开/公告号CN108801148B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-09-14
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社三丰;
申请/专利号CN201810004677.0
发明设计人 J·奎达克尔斯;
申请日2018-01-03
分类号G01B11/02(20060101);G01B11/24(20060101);
代理机构11277 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人刘新宇;张会华
地址 日本神奈川县
入库时间 2022-08-23 12:28:55
机译: 用2.5维光学轮廓线方法对物体表面进行光学扫描从图像堆中计算物体表面高度图的方法和系统
机译: 测量物体表面高度图的方法和系统,以及用于该方法的计算机程序和数据载体
机译: 在光学系统扫描表面光学2.5D轮廓时从图像堆计算物体表面高度图的方法和系统
机译:关于Lindau上用于将多频lonogram转换为电子密度高度分布图的手动和数字计算机方法
机译:苯;高水平的量子化学计算,富士成像板上记录的气体电子衍射图以及探索系统差异的方法,该方法用于确定改进的扇区校正
机译:纹理沉重的高度为虚拟通时系统的变形物体表面
机译:考虑物体表面多次反射,透射和阴影的计算机生成全息图
机译:用于物体表面重建的稳健图像匹配(计算机视觉,摄影测量,立体匹配)。
机译:用于接收阵列光谱的线圈组合:数据驱动方法是否优于使用计算场图的方法?
机译:图3:(a)使用SQM和“5 + 5nrot”构象的32,623单位和双取代分子计算的电子屏障高度和存储能量如“计算方法”部分所述。 (b)使用M06-2X / 6-31G(D)计算的绿盒中的109分子计算的电子屏障高度和存储能量。
机译:用于自动化和高度精确的斑块分析,报告和可视化的计算机实现的系统和方法