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基于超结的集成功率器件及其制造方法

摘要

本发明提供一种基于超结的集成功率器件及其制造方法,其元胞结构包括第一掺杂类型衬底,所述第一掺杂类型衬底上设置有增强型超结MOSFET、耗尽型超结MOSFET和一个隔离结构,两种超结MOSFET器件共用漏极,隔离结构设置于增强型超结MOSFET和耗尽型超结MOSFET之间;本发明在传统的集成功率器件中引入超结,一方面,超结条形成的增强型、耗尽型器件,提高了芯片的电流能力、耐压能力及开关态特性;另一方面,将超结MOSFET器件集成在一起,可独立或组合使用,可集成多种功率器件,不仅应用灵活多变,且更有利于系统集成化和小型化;能有效防止器件表面发生穿通,可靠性高。

著录项

  • 公开/公告号CN108389895B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201810394937.X

  • 申请日2018-04-27

  • 分类号H01L29/06(20060101);H01L27/088(20060101);H01L29/78(20060101);H01L21/8236(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人敖欢;葛启函

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 12:26:52

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