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用于从入射电磁波形成近区中的场强图案的设备

摘要

本公开涉及一种用于从入射在设备上的电磁波形成近区中的场强图案的设备。尤其是,这样的设备允许将入射在设备上的电磁波局限在近区中的辐射波束中。它包括至少一个介电材料的层,其表面具有形成台阶的至少一个水平突然改变。所述表面相对于所述台阶的下方和侧向部分与具有比所述介电材料的折射指数更低的折射指数的物质接触。对于在这样的台阶附近冲击在设备上的入射电磁波,其遇到的指数的对应台阶产生复杂的电磁现象,这允许生成近区中的低色散会聚波束和特定场图案。

著录项

  • 公开/公告号CN108885354B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 交互数字CE专利控股公司;

    申请/专利号CN201780020037.2

  • 发明设计人 L.布隆德;A.波里斯金;

    申请日2017-03-24

  • 分类号G02B27/56(20060101);B82Y20/00(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人刘茵

  • 地址 法国巴黎

  • 入库时间 2022-08-23 12:24:25

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