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基于阵元稀疏优化及新边缘指导插值的超声相控阵稀疏全聚焦成像方法

摘要

本发明公开了一种基于阵元稀疏优化及新边缘指导插值算法的超声相控阵稀疏全聚焦成像方法。通过采用超声相控阵全聚焦成像原理,结合几乎差集与遗传算法(ADS‑GA)对换能器阵列分布进行稀疏设计优化,减少全聚焦成像数据计算量,并根据稀疏阵列与全阵列的声场一致性对成像算法进行修正。再进一步对工件成像区域进行成像点稀疏,并采用新边缘指导插值(NEDI)对低分辨率的稀疏全聚焦图像进行插值,提高成像分辨率。本发明的技术效果在于,在保证高质量成像的同时,极大地缩减了计算时间,提高了成像效率。

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