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公开/公告号CN108037634B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-08-24
原文格式PDF
申请/专利权人 杭州福斯特电子材料有限公司;
申请/专利号CN201711451158.0
发明设计人 朱霞月;李伟杰;严晓慧;李志强;周光大;
申请日2017-12-27
分类号G03F7/039(20060101);H05K3/06(20060101);
代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;
代理人邱启旺
地址 311300 浙江省杭州市临安区锦北街道福斯特街8号1幢212
入库时间 2022-08-23 12:22:14
机译: 干显影的光敏干膜抗蚀剂,由其制成的阻焊膜以及使用干膜抗蚀剂的方法
机译: 阻焊树脂组合物,阻焊结构,干膜和印刷线路板
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机译:阻焊层激光直接成像-一项启用技术
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机译:用于磷脂膜上单分子成像的高荧光,水溶性量子点的声化学合成和生物共轭。
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