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一种遮光罩的制备方法、制备系统及遮光罩

摘要

本发明涉及光学遥感器技术领域,尤其涉及一种遮光罩的制备方法、制备系统及遮光罩,包括:获取遮光罩所适用的光学遥感器的系统参数,计算所述遮光罩的长度,遮光罩为方形;确定对角视场方向挡光环的位置与深度;结合位置和深度确定遮光罩边长方向口径;建立杂光分析模型进行杂光抑制分析;选择无杂光直接照射到所述遮光罩时的遮光罩模型参数,以根据遮光罩模型参数制备所述遮光罩。本发明遮光罩的制备方法所制备的遮光罩在保证同等杂光抑制能力的前提下,方形遮光罩与传统圆形遮光罩相比,外包络尺寸更小,重量更轻。同时,若方形遮光罩的外包络尺寸与重量与圆形遮光罩相当时,方形遮光罩能够获得更好的杂光抑制效果。

著录项

  • 公开/公告号CN111025631B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911336498.8

  • 发明设计人 刘洋;张新;王灵杰;吴洪波;闫磊;

    申请日2019-12-23

  • 分类号G02B27/00(20060101);G03B11/04(20210101);

  • 代理机构44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人曹卫良

  • 地址 130033 吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号

  • 入库时间 2022-08-23 12:20:18

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