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一种抗辐照近红外焦平面探测器及制作方法

摘要

本发明属于半导体光电探测器领域,具体涉及一种抗辐照近红外焦平面探测器及制作方法;所述探测器包括探测器阵列芯片和CMOS读出电路;所述探测器阵列芯片通过铟柱连接CMOS读出电路;所述探测器阵列芯片的像元区由中心向四周依次为有效像元、哑元和冗余像元构成;本发明借助金属遮罩层对哑元进行遮挡,使得哑元不输出光生信号;利用哑元提供补偿电流,分流有效像元在辐照之后上升的暗电流;本发明结构简单,考虑工艺制作的可行性,能够有效解决近红外焦平面探测器在空间辐照环境中性能参数退化的问题。

著录项

  • 公开/公告号CN111128992B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201911278922.8

  • 申请日2019-12-13

  • 分类号H01L25/16(20060101);H01L27/144(20060101);H01L31/0304(20060101);H01L31/102(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构50215 重庆辉腾律师事务所;

  • 代理人王海军

  • 地址 400060 重庆市南岸区南坪花园路14号

  • 入库时间 2022-08-23 12:16:49

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