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一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法

摘要

本发明专利公开了一种生产低位错密度铸造单晶锭或多晶硅锭时的籽晶铺设方法,包括以下步骤:S1,直拉单晶圆棒去除边皮后得到无圆角的单晶方棒;S2,将所述单晶方棒切割成大籽晶块;S3,将所述大籽晶块再次切割成小籽晶块或籽晶条;S4,将所述小籽晶块或者籽晶条铺设在坩埚底部,形成完整的籽晶层;S5,在所述籽晶层上放置原生多晶硅料和头尾边等循环料;S6,将所述装满多晶硅料的坩埚放入铸锭炉中,采用半融工艺得到铸造单晶硅锭或多晶硅锭;S7,将所述硅锭进行开方,开方后得到小方锭;S8,将所述小方锭进行切片后得到铸造单晶硅片或多晶硅片;铺设时高籽晶和矮籽晶交替搭配,使高籽晶和矮籽晶相接触的侧面完美融合,减少了位错出现的概率。

著录项

  • 公开/公告号CN111441083B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-08-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南昌大学;

    申请/专利号CN202010217070.8

  • 发明设计人 周耐根;刘世龙;刘淑慧;

    申请日2020-03-25

  • 分类号C30B13/34(20060101);C30B29/06(20060101);B28D5/00(20060101);C30B13/14(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 330000 江西省南昌市红谷滩新区学府大道999号

  • 入库时间 2022-08-23 12:15:36

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