公开/公告号CN1065852C
专利类型发明授权
公开/公告日2001-05-16
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院大连化学物理研究所;
申请/专利号CN97105068.6
申请日1997-01-31
分类号C07C5/333;B01D63/06;
代理机构中国科学院沈阳专利事务所;
代理人汪惠民
地址 116023 辽宁省大连市中山路457号
入库时间 2022-08-23 08:55:06
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2005-03-30
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
2001-05-16
授权
授权
2000-03-01
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
1998-08-05
公开
公开
机译: 在流化气相反应器(FBR)中由四氯化硅(STC)加氢稳定地生产富含三氯硅烷(TCS)的产品的方法和反应器的结构
机译: 金属和/或陶瓷粉末-通过金属cpds的气相反应(CVR)生产。加上管式反应器中的其他指定反应物,具有狭窄的预定尺寸范围和高纯度
机译: 金属氧化物颜料-在具有陶瓷涂层多孔壁的反应器中通过气相反应