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用于定位影响沉积在基体上的薄层堆叠的缺陷的起源的方法和装置

摘要

该方法用于在包括一系列隔室的沉积流水线中定位影响在隔室中沉积在基体上的薄层堆叠的缺陷的起源,其中每个材料薄层是在沉积流水线的一个或多个连续隔室中沉积的,并且残留于在隔室中沉积的薄层表面的碎屑表现得如同用于后续薄层沉积的掩模并且是缺陷的起源,该方法包括:获得示出所述缺陷的至少一个图像的步骤(E10),所述至少一个图像是通过放置在沉积流水线出口处的至少一个光学检查系统获取的;基于所述至少一个图像来确定缺陷特征的步骤(E20),这种特征包括代表该缺陷的至少一个特性;基于缺陷特征并且通过使用与沉积流水线的隔室相关联的参考特征来识别可能是缺陷起源的沉积流水线的至少一个隔室的步骤(E40)。

著录项

  • 公开/公告号CN109564299B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 法国圣戈班玻璃厂;

    申请/专利号CN201780050232.X

  • 发明设计人 B.严;Y.福西永;G.马泰;T.考夫曼;

    申请日2017-06-22

  • 分类号G01N21/88(20060101);G02B1/10(20150101);G06T7/00(20170101);C23C14/18(20060101);C23C14/54(20060101);C23C14/35(20060101);G02B5/28(20060101);G01N21/84(20060101);G01N21/89(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人郑瑾彤;刘春元

  • 地址 法国库伯瓦

  • 入库时间 2022-08-23 12:13:40

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