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用离子束辅助沉积在Si基体上制备Al膜

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来源
《等离子体应用技术快报》 |1996年第9期|4-5|共2页
作者
康卫红;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN304.055;
关键词
离子束沉积; 铝; 薄膜; 硅;

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