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具有高写裕度的9T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路

摘要

本发明公开了一种具有高写裕度的9T TFET与MOSFET器件混合型SRAM单元电路,单元的整体结构采用了读写分离的方式,单元电路的主体采用TFET器件,传输管部分采用了TFET器件与MOSFET器件组合方式,既克服了堆叠TFET传输能力弱的缺点,又避免了TFET器件作SRAM单元传输管时出现的P‑I‑N正偏电流问题。提高了单元的写能力,降低了单元的静态功耗。

著录项

  • 公开/公告号CN110379448B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 安徽大学;

    申请/专利号CN201910599322.5

  • 申请日2019-07-04

  • 分类号G11C11/412(20060101);G11C11/417(20060101);

  • 代理机构11260 北京凯特来知识产权代理有限公司;

  • 代理人郑立明;郑哲

  • 地址 230601 安徽省合肥市经济开发区九龙路111号

  • 入库时间 2022-08-23 12:12:10

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