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一种双面选择性发射极高效晶硅电池及其制备方法

摘要

本发明属于太阳能光伏行业领域,具体提供了一种双面选择性发射极高效晶硅电池及其制备方法;采用双面选择性发射极的结构,在硼掺杂的重掺杂区域为氧化铝代替氧化硅作为遂穿层的多晶硅结构,可达到超过>1E20atom/cm3的恒定表面浓度提升填充因子(FF),而轻扩区域为单纯的硼掺杂,重扩和轻扩的硼掺杂工艺可在一步中实现,简化了流程。对于磷掺杂区域采用氧化硅作为遂穿层,重掺杂区域为双层多晶硅(poly)结构具有高表面浓度,改善金属化接触,轻扩区域为单层浅掺杂poly结构,进而提升开路电压(Voc)。双面选择性发射极的形成有效地利用了掩膜刻蚀的方式。此结构可有效的提升电池效率,且适合批量化生产。

著录项

  • 公开/公告号CN111524983B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202010258865.3

  • 申请日2020-04-03

  • 分类号H01L31/0224(20060101);H01L31/0216(20140101);H01L31/0352(20060101);H01L31/068(20120101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构32258 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人谢新萍

  • 地址 213164 江苏省常州市武进区滆湖路1号

  • 入库时间 2022-08-23 12:11:47

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