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浸没光刻机偏振像差检测系统的标定方法

摘要

本发明提供了一种浸没光刻机偏振像差检测系统的标定方法,属于光学检测领域。该检测系统中的PSG由偏振片和宽角四分之一波片构成,该设计适用于大角度入射。本征值标定过程中,标定样品采用宽角四分之一波片满足大角度入射时本征值标定方法运行的条件,可以实现高数值孔径偏振成像系统的标定。此外,该标定方法中,在各步骤中的标定样品联合使用的传统四分之一波片和宽角四分之一波片进行标定的策略;不仅实现了偏振态产生器和偏振态分析器的标定,还完成了准直镜的标定,该策略适用于任意高数值空孔径成像系统偏振像差的标定,扩大了适用范围,操作简单、可行性强、标定精度高。

著录项

  • 公开/公告号CN110764372B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201911094589.5

  • 发明设计人 李艳秋;李建慧;

    申请日2019-11-11

  • 分类号G03F7/20(20060101);G01M11/02(20060101);

  • 代理机构11120 北京理工大学专利中心;

  • 代理人仇蕾安

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 12:10:50

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