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一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法

摘要

本发明公开了一种基于和差协同阵构建的平面互质阵列设计方法,主要解决现有技术中平面互质阵列自由度受限于仅利用差分协同阵的问题,以及和差协同阵的研究局限于一维线性阵列的问题,通过压缩平面互质阵列其中一个子阵的阵元间距,并重新设置两个子阵的相对位置,使其纵向排布且呈左右对称并相隔一定距离。以本发明的方法构建的平面互质阵列,最终形成的差分协同阵与和协同阵能够拼接成一个和差协同阵,该和差协同阵包含一个大面积的均匀间距虚拟矩形面阵。与传统平面互质阵列的差分协同阵相比,本发明的方法大幅度提高了阵列的自由度。

著录项

  • 公开/公告号CN110736959B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-07-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN201911022152.0

  • 发明设计人 任仕伟;王贵愚;高巍;

    申请日2019-10-25

  • 分类号G01S3/14(20060101);G01S3/782(20060101);G01S3/802(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-08-23 12:06:03

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