法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-06-13
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 9/20 授权公告日:20090121 终止日期:20110331 申请日:20050331
专利权的终止
2009-01-21
授权
授权
2006-01-18
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-11-30
公开
公开
机译: 保护膜形成装置,保护膜形成方法,等离子体显示板的制造方法以及等离子体显示的方法
机译: 薄膜形成方法,具有薄膜的物品,光学膜,电介质涂覆的电极以及等离子体放电处理装置
机译: 气相沉积膜形成方法,保护膜形成方法以及制造等离子体显示面板的装置